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脈沖磁控濺射的工作原理和工作方式
脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進行磁控濺射沉積。脈沖磁控濺射技術可以有效的抑制電弧產(chǎn)生進而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射沉積速率，降低沉積溫度等一系列顯著優(yōu)點。
公司技術支撐團隊有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術與應用”?？?/a>
公司技術支撐團隊有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術與應用”?？?，彰顯新鉑科技在高功率磁控濺射方面有較多的技術積累。
真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術介紹
真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術不同區(qū)別的介紹
一、真空蒸鍍法
真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發(fā)的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結形成固體薄膜的技術.
