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公司技術支撐團隊有7篇文章選登《中國表面工程》雜志“高離化磁控技術與應用”?？蔑@新鉑科技在高功率磁控濺射方面有較多的技術積累。

1. HiPIMS電源的設計基礎及研究進展

2. 基于高功率脈沖磁控濺射的Cr膜層研究進展

3. 高引燃脈沖新HiPIMS模式對TiN/CrN多層膜結構和性能的影響

4. 電-磁場協同增強HiPIMS技術的CrAl靶放電行為及CrAlN薄膜制備

5. 基體偏壓對高功率脈沖磁控濺射制備CrAlN薄膜性能的影響

6. 高功率脈沖磁控濺射管內壁沉積Cr薄膜結構及性能

7. 細長管內表面鍍Cu過程中的空心陰極輝光電

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脈沖磁控濺射的工作原理和工作方式

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