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新鉑科技參加2023國(guó)際新材料展
2023年6月27-29日，在深圳國(guó)際會(huì)展中心20號(hào)館舉辦了2023國(guó)際新材料展(MATERIALS.CN)
公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國(guó)表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”專(zhuān)刊
公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國(guó)表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”專(zhuān)刊，彰顯新鉑科技在高功率磁控濺射方面有較多的技術(shù)積累。
對(duì)比陰極弧與HiPIMS對(duì)AlTiN沉積膜層的研究
目前制備硬質(zhì)合金涂層主要可采用PVD方式，而PVD沉積除磁控放電外，還有陰極弧放電進(jìn)行涂層PVD沉積，相比磁控，陰極弧放電結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，已廣泛應(yīng)用于各種涂層技術(shù)的制備，如裝飾鍍層，其工藝沉積速率快。隨著工藝的要求逐漸提高，硬質(zhì)合金涂層在硬度等方面提出了更高的要求，
