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HIPiMS技術高能磁控電源輸出線有什么注意事項？
一、電源輸出線離腔體盡量近，電源線盡量短為了保證脈沖電流波形引入到真空腔體時波形不畸變，且衰減小。期望在系統(tǒng)中，脈沖電鍍電源與真空腔體的距離2-3m為佳，長線易對脈沖電流波形的上升、下降沿產生較大的影響，真空腔體打火時，滅弧效果有影響。二、正負極導線使用同軸線纜或者雙絞屏蔽脈沖電源的輸出銜接，導線間的電感效應越小越好。因而陰、陽極導線最好的辦法就是同軸無感線纜。
耗散功率竟然能影響銅濺射等離子體的行為！
本文研究了在銅濺射等離子體中耗散功率對其影響的實驗結果。通過光發(fā)射光譜技術進行測量，探討了耗散功率對銅濺射等離子體的物理特性和行為的影響。
通過實驗結果發(fā)現(xiàn)，耗散功率的增加導致銅濺射等離子體中的電子溫度和密度的增加。此外，還觀察到了濺射過程中的輻射特性和粒子輸運行為的變化。
一文讀懂濺射沉積技術
濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現(xiàn)大面積快速沉積，薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復性好等優(yōu)點，而且任何物質都可以進行濺射，因而近年來發(fā)展迅速，應用廣泛。
HiPIMS：簡單的方法就能調控磁控濺射中的金屬/氣體離子比？
1）磁控濺射：HiPIMS中簡單的脈寬變化，就能調控膜層中的金屬/氣體離子比。
2）常規(guī)的磁控靶換成HiPIMS電源就可以達到上述效果。
不平凡的釩靶HiPIMS（放電區(qū)直徑約３０ｍｍ放電電流達１４０Ａ）
金屬釩（V）作為一種高熔點的稀有金屬材料，常與鈮、鉭、鎢、鉬并稱為難熔金屬。金屬釩具有耐鹽酸和硫酸的性能，并且耐氣-鹽-水腐蝕的性能要比大多數(shù)不銹鋼好。在某些特殊的重要場合，金屬V薄膜常被用來作為高溫隔離防護涂層，因此開展V靶HIPIMS放電特性方面的研究工作具有重要的意義。
6種靶材HiPIMS放電大不相同，設計工藝要知道!
HiPIMS放電，由于工作在放電曲線的特殊區(qū)域，其放電特性不僅依賴于使用的氣壓、電壓，更依賴于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脈沖工作，其放電特性具有時間特征，而表現(xiàn)出不同的放電特性。這里我們選用常用的幾種靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），給出了他們的放電特性。這種與時間相關的放電特性，對于工藝設計是非常重要的。